Nagpakita sa Shanghai ang Prototype ng EUV Light Source ng China; Tatlo hanggang Limang Taon Pa Bago ang Maramihang Produksyon

Unang ipinakita sa publiko ang prototype ng light source

Ipinakita ng Shanghai startup na Langdao Suiyan ang prototype ng extreme ultraviolet (EUV) light source sa ika-26 na China International Industry Fair. Ayon sa kumpanya, 90 porsiyento ng mga piyesa nito ay gawa sa China, ngunit tatlo hanggang limang taon pa bago ito sumapit sa maramihang produksyon. Ang pagpapakitang inilarawan sa mga ulat na may petsang Oktubre 2026 ay nagdala sa pansin ng publiko ng isang partikular na bahagi ng pagsisikap ng China sa paggawa ng mga advanced chip: kagamitang idinisenyo para lumikha ng liwanag na ginagamit sa pag-imprenta ng maliliit na pattern ng sirkito.

EUV light source ang ipinakitang kagamitan, isa sa mga pangunahing bahagi ng isang lithography machine. Kailangan din ng kumpletong makina ang mga precision optic, platapormang nagpoposisyon sa silicon wafer, vacuum system at mga kontrol para magkasamang gumana ang mga bahaging ito. Ang iskedyul ng Langdao ay tumutukoy sa pagbuo ng light source; ayon sa mga kawani nito, mas mataas na output at maaasahang operasyon sa mahabang panahon ang pangunahing gawaing natitira.

Sinabi ng mga kinatawan ng kumpanya na magagamit ang prototype sa mga pagsusuri ng chip exposure. Ayon sa mga espesipikasyong iniugnay sa kumpanya, lampas 15 watts ang EUV output at higit 100 oras ang tuloy-tuloy na operasyon ng FlintNano system nito na mababa ang power. Walang inilabas na resulta ng independiyenteng pagsusuri o detalyadong resulta ng exposure mula sa ipinakitang prototype, kaya hindi pa tiyak ang performance nito sa praktikal na mga pagsubok sa paggawa ng chip.

Mahalaga ang pagbuo nito dahil hindi makabili ang mga Chinese chipmaker ng EUV lithography machine mula sa Dutch supplier na ASML dahil sa mga restriksiyon sa export. Posibleng makatulong kalaunan ang isang lokal na light source sa pagbuo ng alternatibong supply chain. Sa ngayon, ipinakikita ng eksibisyon sa Shanghai na gumagawa ang isang batang kumpanya sa isa sa pinakamahirap buuing bahagi ng kagamitan, at ayon mismo sa pagtataya nito, ilang taon pa ang kailangan para sa engineering.

Ano ang ipinakita sa Shanghai?

Nasa katamtamang puwesto ang prototype ng Langdao sa lugar ng eksibisyon sa Shanghai, sa bulwagan ng inobasyong teknolohiya ng perya. Nakatawag-pansin ang magaspang na panlabas na anyo nito, habang tumanggi naman ang mga kawani sa pormal na panayam sa media. Sa iba pang mga paglalarawan ng eksibisyon, naitala ang mga teknikal na paliwanag ng mga kinatawan ng kumpanya, kabilang ang sinasabing bahagdan ng mga piyesang lokal at inaasahang iskedyul ng produksyon.

Ayon sa Langdao, dumalo ito sa paanyaya ng Shanghai Technology Innovation Center. Inilarawan ng mga kawani ang paglahok bilang paraan para ipakita na may grupong Chinese na nagtatrabaho sa paglikha ng EUV light, at para hikayatin ang publiko na magpasensiya sa prosesong nangangailangan ng panahon.

Sa lithography, inilalantad sa pattern ang patong na sensitibo sa liwanag sa ibabaw ng silicon wafer. Sa mga susunod na hakbang sa produksyon, nagiging bahagi ng elektronikong sirkito ang pattern na ito. May wavelength na humigit-kumulang 13.5 nanometer ang EUV light, kaya nakalilikha ang angkop na kagamitan ng napakapinong mga pattern. Simula pa lamang ang paglikha ng liwanag: kailangan din itong maituro nang wasto ng makina at makapaghatid ng pare-parehong exposure.

Mga inilathalang espesipikasyon

Ang FlintNano LPP-OXXO ng Langdao ang sistemang mababa ang power na may pinakadetalyadong espesipikasyong inilarawan. Ayon sa kumpanya, nasa yugto ng pagbuo at komersiyalisasyon ng produkto ang pamilya ng FlintNano, samantalang natapos na ng mas mataas ang power na pamilya ng FlintMicro-LPP ang mga pag-aaral sa prinsipyo at pagiging posible nito.

Kabilang sa mga espesipikasyong iniugnay sa Langdao ang:

• Driving laser na may rating na 1,000 watts at gumagana sa frequency mula 1 hanggang 20 kilohertz.
• Conversion efficiency na lampas 2 porsiyento at EUV output na lampas 15 watts.
• Tuloy-tuloy na operasyon nang mahigit 100 oras.
• Laki ng plasma na 60 micrometer.
• Plasma stability na nasa loob ng 3 porsiyentong RMS at energy output stability na 5 porsiyento.

Sinusukat ng watts ang power, o kung gaano kabilis naihahatid ang enerhiya. Inilalarawan ng 1,000-watt rating ng laser ang power na ibinibigay ng driving laser; inilalarawan naman ng EUV output rating ang kapaki-pakinabang na liwanag na nalilikha ng sistema. Magkaibang yugto ang mga ito ng proseso. Sinusukat ng kilohertz ang dalas ng pag-uulit; ang 1 kilohertz ay nangangahulugang 1,000 siklo bawat segundo.

Binubuod ng RMS stability measure ang mga pagbabago sa loob ng isang panahon ng pagsukat. Para sa tagagawa ng chip, ang praktikal na usapin ay kung sapat na pare-pareho ang dami ng liwanag sa bawat exposure. Maaaring makaapekto ang mga pagbabago sa katumpakan ng pagbuo ng pattern ng sirkito sa patong ng wafer.

Paano nalilikha ang liwanag

Pinipili ng Langdao ang teknolohiyang laser produced plasma, na karaniwang pinaikli sa LPP. Sa paraang ito, tinatamaan ng malakas na laser ang maliliit na patak ng tin at lumilikha ito ng napakainit na plasma na naglalabas ng EUV light. Ang plasma ay estado ng matter kung saan nawalan ng ilan sa mga electron ang mga atomo. Kinokolekta ng collector mirror ang bahagi ng inilalabas na liwanag at itinuturo ito patungo sa exposure system.

LPP source din ang ginagamit sa mga komersiyal na EUV machine ng ASML. Kabilang sa mahihirap na hamon sa engineering ang paulit-ulit na paggawa nang eksakto sa proseso, pagkolekta ng sapat na kapaki-pakinabang na liwanag, at pagprotekta sa sensitibong kagamitan mula sa mga epekto ng plasma. Kailangang magtulungan ang tuloy-tuloy na daloy ng mga patak ng tin, malakas na driving laser at matibay na collector mirror.

Ipinakikita ng mas malawak na negosyo ng Langdao ang mga pangangailangang ito. Bukod sa EUV light source, inilalarawan din nito ang mga ginagawa sa high power carbon dioxide laser at plasma simulation software. Nagbibigay ang mga laser ng driving hardware, habang tumutulong naman ang simulation software sa mga inhinyero na pag-aralan ang kilos ng plasma at iakma ang mga kondisyon ng pagpapatakbo.

Kabilang din sa mga pagsisikap sa pananaliksik sa China ang mga alternatibong pamamaraan, gaya ng laser induced discharge plasma at paglikha ng liwanag gamit ang accelerator. May sarili ring iskedyul ng pagbuo ang mga proyektong ito. Nanatili sa tatlo hanggang limang taon ang pampublikong pagtataya ng Langdao bago maabot ng light source nito ang maramihang produksyon.

Bakit mahalaga ang mas mataas na power at mas mahabang buhay

Nangangailangan ang mga komersiyal na EUV system ng light source na naghahatid ng daan-daang watts, kasama ang maaasahang operasyon sa masinsing produksyon. Ibang kategorya ng operasyon ang sistemang mababa ang power ng Langdao, na may inilathalang output na lampas 15 watts. Para magamit ito sa pabrika, kailangang paramihin ang kapaki-pakinabang na liwanag na naihahatid habang nananatiling matatag ang kagamitan.

Makakatulong ang mas maraming kapaki-pakinabang na liwanag para mas mabilis makapag-expose ng mga wafer ang lithography system. Naaapektuhan nito kung ilang wafer ang kayang iproseso ng isang pabrika at kung magkano ang gastos sa bawat exposure. Gayundin kahalaga ang pagiging maaasahan: maaaring maantala ang produksyon at bumaba ang halaga ng isang makapangyarihang source kung maputol ang operasyon ng makina.

Nagdudulot ng partikular na hamon ang collector mirror dahil katabi ito ng masiglang plasma. Kailangan ding tuloy-tuloy na maihatid ng generator ng mga patak ng tin ang mga patak sa tamang lugar at tamang oras. Maaaring makaapekto sa liwanag na umaabot sa wafer ang maliliit na pagbabago sa alinman sa mga prosesong ito.

Mahigit apat na araw ang katumbas ng sinabing operasyon ng Langdao na lampas 100 oras. Kailangan din ng mga kostumer na pabrika ang impormasyon tungkol sa mga pagitan ng maintenance, pagpapalit ng piyesa at performance sa paulit-ulit na mga siklo ng operasyon. Direktang iniugnay ng mga kawani ang natitirang gawaing pang-engineering sa output at stability.

Ano ang ibig sabihin ng 90 porsiyentong lokal na piyesa

Ayon sa mga kinatawan ng kumpanya, lokal ang 90 porsiyento ng mga piyesa ng prototype, at sila mismo ang bumuo sa karamihan ng mga pangunahing bahagi. Inilarawan din nila ang hirap sa pagkuha ng ilang piyesang inaangkat, at sinabing may agwat pa rin sa stability ang mga alternatibong gawa sa China sa ilang larangan.

Hindi tinukoy ng Langdao kung binilang ang 90 porsiyento batay sa dami ng piyesa, halaga o ibang paraan. Para sa mga mambabasa, mahalagang malaman kung aling mga piyesa ang mahirap palitan at paano nakaaapekto ang mga ito sa pagiging maaasahan ng buong sistema. Kahit maliit ang bahagdan ng ilang piyesa, maaari pa ring kabilang dito ang kagamitang mahalaga sa tuloy-tuloy na operasyon.

Tumanggi ang mga kawani na tukuyin ang natitirang mga piyesang inaangkat. Sa kanilang paliwanag, nakasalalay ang hamon sa engineering sa isang network ng mga supplier, hindi lamang sa gawain ng isang kumpanyang nag-aasembol. Kailangang pare-pareho ang kalidad at maaasahan ang buhay-operasyon ng mas mahuhusay na lokal na piyesa.

Para sa mga pabrika ng wafer sa China, posibleng makatulong kalaunan ang ganap nang napanday na lokal na source upang mabawasan ang epekto ng mga restriksiyon sa kagamitan at ekstrang piyesa. Sa kasalukuyan, kailangang gawing mga piyesang maaasahang gumagana nang magkakasama sa mahabang panahon ang mga disenyong lokal.

Startup na suportado ng mga mamumuhunan sa industriya ng chip

Itinatag ang Langdao noong 2024. Umaasa si Wang Hao, ang tagapagtatag, at ang kanyang koponan sa pananaliksik ng Gas Discharge and Plasma Laboratory ng Tsinghua University, at nakatuon sila sa teknolohiyang LPP para sa mga EUV lithography source.

Sinabayan ng ilang round ng financing ang pagbuo ng kumpanya. Kabilang sa mga mamumuhunang pinangalanan sa mga ulat tungkol sa pagpopondo ang Woyan Capital at China Fortune-Tech Capital, na may kaugnayan sa Semiconductor Manufacturing International Corporation, ang nangungunang contract chipmaker ng China. Iniuugnay ng suportang ito ang startup sa mga mamumuhunang may karanasan sa kagamitan at produksyon ng semiconductor.

Ganito ang naiulat na pagkakasunod-sunod mula sa pagtatatag hanggang sa pagpopondo at pampublikong pagpapakita:

• 2024: Itinatag ang Langdao at sinimulan ang proyekto nito para sa EUV light source.
• Oktubre 2025: Nagbigay ng angel financing ang Suiyue Ventures, na kaugnay ng Zhangjiang Hi-Tech.
• Enero 2026: Nakumpleto ng kumpanya ang isa pang round ng angel financing.
• Hulyo 2026: Nakumpleto ng Langdao ang Series A round.
• Oktubre 2026: Unang ipinakita sa publiko ang prototype ng light source sa industry fair sa Shanghai.

Nagbibigay ang pagpopondo ng mga mapagkukunan para sa kagamitan, pagkuha ng mga tauhan at higit pang pagbuo ng produkto. Ilang taon pa rin ang inilaan ng sariling iskedyul ng Langdao para sa engineering matapos ang pampublikong pagpapakita nito. Ipinakikita nito ang layo sa pagitan ng pagpopondo sa isang prototype at pagbibigay ng produktong pang-industriya na maaaring ulit-ulitin ang maaasahang operasyon.

Patuloy na nagtutulak sa lokal na pagbuo ang mga kontrol sa export

ASML ang tanging komersiyal na supplier ng kumpletong EUV lithography system. Pinipigilan ng mga restriksiyon ang pagbebenta ng mga sistemang ito sa China, kaya estratehikong prayoridad para sa mga tagagawa roon ang pagbuo ng lokal na alternatibo. Pinalakas ng ASML ang kakayahan nito sa light source nang bilhin nito ang Cymer noong 2013, bahagi ng matagal na industriyal na pagbuo sa likod ng kagamitang ginagamit ngayon.

Patuloy na gumagamit ang mga Chinese chipmaker ng deep ultraviolet (DUV) equipment sa produksyon. Mas mahaba ang wavelength ng DUV kaysa sa EUV. Sa pamamagitan ng multiple patterning, na naghahati sa masalimuot na pattern ng sirkito sa ilang hakbang ng pagproseso, napapalawak ng mga tagagawa ang kayang gawin ng mga makinang ito. Ngunit dagdag sa pagiging masalimuot at gastos ng produksyon ang mas maraming hakbang.

Nagpahayag ng pag-aalinlangan ang punong ehekutibo ng ASML na si Christophe Fouquet tungkol sa bilis ng paghabol ng China sa teknolohiya ng kumpanya. Sa isang tawag sa mga mamumuhunan, ganito niya inilarawan ang layo pang kailangang tahakin ng China:

napakalayo pa ng kailangang marating

Nagbibigay ng mas tiyak na sukatan para sa sariling proyekto ng Langdao ang pagtataya nitong tatlo hanggang limang taon. Kung bibilang mula sa naiulat na pagpapakita noong Oktubre 2026, nangangahulugan ito ng humigit-kumulang 2029 hanggang 2031 kung susunod sa inaasahan ang pagbuo. Iskedyul ito para sa light source; kailangan ding umabot sa magkakatugmang antas ng performance ang iba pang pangunahing sistema bago mabuo ang buong lithography machine.

Inilalagay sa konteksto ng EUV ang pag-usad sa ibang larangan

Pinapalawak din ng mga Chinese supplier ang kanilang kakayahan sa iba pang yugto ng produksyon bukod sa lithography. Sa semiconductor exhibition sa Shenzhen na ginanap sa kaparehong panahon, nagpakita ang Hwatsing ng ion implantation machine, nagpakita ang Leadmicro ng kagamitang pangdeposito ng manipis na pelikula, at inanunsiyo ng Piotech ang teknolohiya ng carbon film deposition para sa memory at logic chip.

Mahalaga ang mga pag-unlad na ito dahil maraming uri ng kagamitan ang kailangan sa isang pabrika ng wafer. Binabago ng ion implantation ang mga katangiang elektrikal ng piling bahagi ng silicon. Nagdaragdag naman ang deposition ng maninipis na patong ng materyal. Tinutukoy ng lithography ang mga pattern na gagabay sa mga susunod na proseso. Makapagpapalawak ng paggamit ng lokal na kagamitan ang pag-usad sa mga yugtong ito, habang nagpapatuloy ang pagbuo ng EUV.

Tinataya ng Bernstein Research na aangkinin ng mga lokal na supplier ang 52 porsiyento ng merkado ng kagamitan para sa wafer fabrication sa China pagsapit ng 2028, kumpara sa tinatayang 28 porsiyento noong 2026. Pagtaas ito ng 24 na percentage point. Mas malawak na merkado ng kagamitan ang saklaw ng pagtatayang ito kaysa sa EUV lithography.

Ang susunod na makabuluhang pag-unlad ng Langdao ay may kinalaman sa mas mataas na output, tuloy-tuloy na pagiging maaasahan at performance sa exposure habang umuusad ito sa itinakdang panahon ng engineering. Kinuwestiyon din ng mga internet user sa China kung nakatuon ang publisidad sa eksibisyon sa pangangalap ng pondo at damdaming makabayan. Magbibigay ng mas kongkretong impormasyon sa mga potensiyal na kostumer at mamumuhunan ang paglalathala ng detalyadong resulta ng operasyon at magpapakita ng aktuwal na pag-usad ng produkto.

Mahahalagang Punto

• Ipinakita ng Langdao Suiyan sa Shanghai ang prototype ng EUV light source; ayon sa mga kawani ng kumpanya, lokal ang 90 porsiyento ng mga piyesa nito.
• Light source ang paksa ng eksibisyon, isa lamang sa ilang pangunahing sistemang kailangan sa isang kumpletong EUV lithography machine.
• Kabilang sa inilathalang espesipikasyon ng FlintNano ang EUV output na lampas 15 watts at operasyon na mahigit 100 oras.
• Tatlo hanggang limang taon pa bago ang maramihang produksyon, ayon sa mga kawani; power at pagiging maaasahan ang pangunahing mga gawaing pang-engineering.
• Itinatag ang kumpanya noong 2024 at nakakuha ito ng mga mamumuhunang may kaugnayan sa industriya ng semiconductor ng China.
• Patuloy na nagtutulak sa mga pagsisikap ng China na bumuo ng lokal na kagamitan ang mga restriksiyon sa pag-export ng EUV machine ng ASML.